聯(lián)電與美光達成和解 或?qū)⒏懊涝O(shè)廠

  ICC訊  據(jù)多家臺灣媒體報道，臺灣晶圓廠聯(lián)電發(fā)布公告，公司已與美光達成全球范圍內(nèi)的和解協(xié)議，雙方將各自撤回向?qū)Ψ教崞鸬脑V訟，同時聯(lián)電向美光一次性支付一筆金額保密的和解金，未來雙方將共同創(chuàng)造合作機會。

  臺媒報道稱，在達成和解后，聯(lián)電或可能追隨臺積電的腳步，前往美國新建晶圓廠。不過有業(yè)內(nèi)人士表示，美國需要的是先進制程，聯(lián)電赴美不太可行。

  據(jù)報道，聯(lián)電現(xiàn)有12座晶圓廠，主要是成熟制程，是28nm的重要代工廠之一。而雙方訴訟，起源于2016年聯(lián)電與福建多家公司合資組建晉華公司，令美光感受到威脅，美光于2017年起訴聯(lián)電違反反營業(yè)秘密法。后來，美國司法部親自下場，指控福建晉華與聯(lián)電共謀“盜竊”美國商業(yè)機密。

  在美國司法部的強大壓力下，聯(lián)電選擇退讓，去年與美國司法部達成和解，賠償6000萬美元，從而避免了高額罰款。

  本次與美光達成合作，聯(lián)電將可以擺脫來自美國的訴訟困擾，輕裝上陣。

  隨著與美國司法部、美光先后達成和解，遭遇挫折的福建晉華也迎來轉(zhuǎn)機。如果聯(lián)電無罪，那么晉華的“同謀罪”，也就無從說起。