銘普光磁新增一項(xiàng)發(fā)明專利 400G光模塊已小批量供貨

  ICC訊  (編輯：Nicole) 光器件制造商?hào)|莞銘普光磁股份有限公司(簡(jiǎn)稱：銘普光磁)發(fā)布公告稱：公司近日取得一項(xiàng)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局頒發(fā)的“一種光模塊參數(shù)配置方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)”發(fā)明專利證書(shū)(專利號(hào)：ZL 2018 1 1603013.2，專利類(lèi)型：發(fā)明專利)。

  該發(fā)明公開(kāi)了一種光模塊參數(shù)配置方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)，包括：將光模塊放置在高溫環(huán)境下，當(dāng) MCU 溫度指針達(dá)到目標(biāo)工作溫度時(shí)，調(diào)節(jié)激光器核心溫度值、偏壓電流值和 VEA 值，使光模塊的光功率、消光比、通道代價(jià)滿足目標(biāo)值;以光模塊中 MCU 溫度指針為索引，根據(jù)服務(wù)器上預(yù)先存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)庫(kù)中激光器核心溫度值、VEA 值與調(diào)節(jié)后的激光器核心溫度值、VEA 值的對(duì)應(yīng)關(guān)系，動(dòng)態(tài)更新本地?cái)?shù)據(jù)庫(kù)中激光器核心溫度值、VEA 值;在常溫和低溫下分別測(cè)試光模塊的光功率、消光比和通道代價(jià)，若性能正常，則完成參數(shù)配置。

  本申請(qǐng)通過(guò)上述步驟將帶 EML 激光器的光模塊在高溫調(diào)試和常溫低溫測(cè)試，即能制作成品率高和合格率高的產(chǎn)品。

  銘普光磁表示獲得發(fā)明專利有利于充分發(fā)揮公司自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)優(yōu)勢(shì)，完善知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)體系，對(duì)公司開(kāi)拓市場(chǎng)及推廣產(chǎn)品產(chǎn)生積極的影響，形成持續(xù)創(chuàng)新機(jī)制，提升公司核心競(jìng)爭(zhēng)力。

  近日，銘普光磁在接待東北證券調(diào)研時(shí)表示：公司400G光模塊產(chǎn)品應(yīng)用于數(shù)據(jù)中心市場(chǎng)，目前已有多家客戶送樣，部分客戶已有小批量供貨。

  對(duì)于一些新的領(lǐng)域，如無(wú)人駕駛、商業(yè)衛(wèi)星，有跟部分車(chē)企進(jìn)行合作，部分料號(hào)已有小批量交貨，但是否用于無(wú)人駕駛公司不是很清楚，也暫未參與商業(yè)衛(wèi)星項(xiàng)目。

  關(guān)于銘普光磁

  東莞銘普光磁股份有限公司光電事業(yè)部成立于2009年5月，擁有一支高效的管理團(tuán)隊(duì)以及具備豐富經(jīng)驗(yàn)的研發(fā)和工藝開(kāi)發(fā)團(tuán)隊(duì)。在秉承始終為客戶提供高品質(zhì)、低成本的解決方案的理念下，光電事業(yè)部在光電器件和模塊的研發(fā)、生產(chǎn)制造等方面取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步并積累了豐富的經(jīng)驗(yàn)。具有從TO，到光器件，至光模塊以及無(wú)源波分系統(tǒng)的垂直整合，以及大規(guī)模生產(chǎn)能力。同時(shí)也具備了COB和BOX等高端器件封裝設(shè)計(jì)和制造能力。