中科院研制成功兩類高線密度鈦特征線波帶片

近日，中國科學院高能物理研究所同步輻射室與有關單位合作研制成功了兩種類型的高線密度鈦特征線波帶片。

    在X射線波段，各種材料的折射率均接近或小于1，常規(guī)的折射光學元件將無法使用，必須采用高線密度的波帶片元件來實現(xiàn)X射線波段的聚焦、成像和色散。波帶片的概念早在1871年就被Rayleigh發(fā)明，然而受制于微細加工技術能力，100多年來其應用一直受到極大限制。近二十年來得益于集成電路微細加工技術的迅猛發(fā)展，國際上許多新概念X射線衍射光學元件不斷被提出和實現(xiàn)。

    同步輻射專用運行期間，一些長期困擾該技術發(fā)展和應用的技術難題，如高線密度波帶片微光刻圖形數(shù)據(jù)處理、復雜圖形的X射線掩模電子束光刻、深亞微米圖形電鍍、X射線曝光等問題得到解決 。在此基礎上，同步輻射X射線光刻站研究人員采取有效技術措施，成功實現(xiàn)了波帶片圖形特征尺寸精確控制，最終研制成功兩種類型的高線密度鈦特征線波帶片。

　　同步輻射X射線光刻技術是深亞微米、納米復雜圖形X射線衍射光學元件最為有效的先進加工方法之一。上述進展，將為X射線診斷技術的研究和發(fā)展提供有力支持；并能為光子晶體器件、分子電子器件等納電子器件的研究提供優(yōu)質(zhì)的技術服務。