研發(fā)超構(gòu)表面光學(xué)芯片，山河光電獲數(shù)千萬(wàn)元Pre-A輪投資

  據(jù)麥姆斯咨詢報(bào)道，近日，超構(gòu)表面光子芯片研發(fā)廠商山河光電宣布完成數(shù)千萬(wàn)元Pre-A輪融資，本輪融資由舜宇產(chǎn)業(yè)基金和經(jīng)緯創(chuàng)投聯(lián)合領(lǐng)投，老股東中科創(chuàng)星持續(xù)跟投。融資資金將用于產(chǎn)品研發(fā)、團(tuán)隊(duì)擴(kuò)充以及小規(guī)模量產(chǎn)。

  近年來，超構(gòu)表面(metasurface)與超構(gòu)透鏡(metalens)的研究成為光學(xué)前沿技術(shù)熱點(diǎn)，也是光學(xué)和光子學(xué)領(lǐng)域發(fā)展最快、最具顛覆性的新技術(shù)。

  超構(gòu)表面是由大量亞波長(zhǎng)單元在二維平面上設(shè)計(jì)排布而成的人工結(jié)構(gòu)陣列，能夠?qū)﹄姶挪ㄟM(jìn)行靈活調(diào)控。超構(gòu)透鏡是具有透鏡功能的超構(gòu)表面，其體積小、重量輕、易于集成，可實(shí)現(xiàn)對(duì)入射光振幅、相位、偏振等參量的精確控制，在手機(jī)/車載攝像模組、VR/AR、全息顯示、醫(yī)療傳感與成像等方面有潛在重要應(yīng)用。

  山河光電成立于2020年底，致力于光的超級(jí)感知、光的大容量傳輸、微型顯示以及光計(jì)算等方向的超構(gòu)表面光子芯片產(chǎn)品研發(fā)與制造。

  據(jù)山河光電介紹，光學(xué)超構(gòu)表面是使用半導(dǎo)體工藝在晶圓上批量制備的微米、亞微米級(jí)厚度平面器件，可實(shí)現(xiàn)功能集成化(多種光學(xué)功能集成在一個(gè)光子芯片上)并可進(jìn)行納米級(jí)光波波前的編碼和調(diào)控，因此也被稱為超構(gòu)表面光子芯片或平面光子芯片;可采用無機(jī)材料制造，使其具備傳統(tǒng)玻璃透鏡的環(huán)境與溫度穩(wěn)定性，適用于車輛、航空航天、水下等多種復(fù)雜環(huán)境;可克服傳統(tǒng)光學(xué)透鏡厚重、功能單一、模組工藝復(fù)雜、量產(chǎn)成本高的缺點(diǎn);這些特點(diǎn)使得超構(gòu)表面光子芯片被認(rèn)為是光學(xué)領(lǐng)域數(shù)百年來最重要的一次變革，其不僅可以革新傳統(tǒng)市場(chǎng)，也將創(chuàng)造具有廣闊前景的新市場(chǎng)。

  山河光電結(jié)合現(xiàn)代半導(dǎo)體制造工藝與光子學(xué)研究的最新進(jìn)展，獨(dú)立設(shè)計(jì)并使用先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)在晶圓上批量制備多種功能集成化的超構(gòu)表面光子芯片器件及模組。公司擁有多項(xiàng)創(chuàng)新專利，相關(guān)產(chǎn)品在消費(fèi)電子、汽車電子、無人機(jī)、安防監(jiān)控、自動(dòng)駕駛、通信、航空航天及國(guó)防軍工等眾多領(lǐng)域具有廣闊的市場(chǎng)前景。山河光電現(xiàn)已完成多款超構(gòu)表面光子芯片產(chǎn)品的樣品制作和模組封裝，預(yù)期今年可實(shí)現(xiàn)小規(guī)模量產(chǎn)。

  技術(shù)團(tuán)隊(duì)方面，山河光電匯聚了海內(nèi)外知名高校、科研院所的博士和多名十余年半導(dǎo)體工藝與晶圓級(jí)光模組封測(cè)工作經(jīng)驗(yàn)的產(chǎn)業(yè)專家，并與國(guó)內(nèi)外多家高校、科研院所建立了合作關(guān)系。

  值得一提的是，山河光電CEO是美國(guó)著名光學(xué)中心羅切斯特大學(xué)的光學(xué)博士和SPIE高級(jí)會(huì)員，并被認(rèn)定為國(guó)家海外高層次留學(xué)人才，深耕光學(xué)和半導(dǎo)體領(lǐng)域多年，在超構(gòu)表面光子芯片研發(fā)和量產(chǎn)上具備更加全面的視角。歸國(guó)之前曾在世界兩大半導(dǎo)體研發(fā)中心之一的IBM研發(fā)聯(lián)盟工作近十年，主持了美國(guó)第一臺(tái)EUV光刻原型驗(yàn)證機(jī)Alpha demo tool以及后續(xù)EUV機(jī)型NXE: 3300的工藝驗(yàn)證工作，在世界上首次實(shí)現(xiàn)了EUV光刻工藝良率，直接參與了14nm、10nm、7nm、5nm和3nm節(jié)點(diǎn)的研發(fā)工作，推動(dòng)了EUV光刻技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化。其已發(fā)表26篇國(guó)際專業(yè)期刊文章和幾十次國(guó)際會(huì)議邀請(qǐng)報(bào)告，授權(quán)發(fā)明專利30 余項(xiàng)，其中美國(guó)專利32項(xiàng)。

  市場(chǎng)前景方面，美國(guó)知名科技研究機(jī)構(gòu)Lux Research預(yù)計(jì)未來的光學(xué)超構(gòu)表面市場(chǎng)有望超過500億美元，超構(gòu)表面光子芯片作為前沿技術(shù)正走向落地，市場(chǎng)將迎來爆發(fā)。