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一臺售價30億 !ASML下一代光刻機!

摘要:根據(jù)ASML公司高管日前透露的消息,NA=0.55的EUV光刻機今年底會出貨首個商用原型,2025年會正式量產(chǎn)。

  ICC訊  在半導體工藝進入7nm節(jié)點之后,EUV光刻機是少不了的關(guān)鍵設(shè)備,目前只有ASML能制造,單臺售價10億人民幣,今年底還會迎來下一代EUV光刻機,價格也會大漲。

  光刻機的分辨率越高,越有利于制造更小的晶體管,而分辨率也跟光刻機物鏡的NA數(shù)值孔徑有直接關(guān)系,目前的EUV光刻機是NA=0.33技術(shù)的,下代EUV光刻機則是提升到NA=0.55。

  根據(jù)ASML公司高管日前透露的消息,NA=0.55的EUV光刻機今年底會出貨首個商用原型,2025年會正式量產(chǎn)。

  他沒有公布具體哪家公司會首發(fā)NA=0.55光刻機,但之前英特爾公司表示他們會率先使用下代EUV光刻機,已經(jīng)巨資提前下單。

  按照2025年出貨的時間點來看,臺積電、英特爾、三星的2nm級別工藝是趕不上的,最快也要到1.4nm工藝才能用上NA=0.55光刻機,未來生產(chǎn)1nm工藝則是不可少的設(shè)備。

  伴隨技術(shù)提升的還有售價,由于更加復雜、精密,NA=0.55的EUV光刻機價格大幅上漲,具體多少不確定,此前消息稱不低于4億美元,人民幣接近30億元了,是現(xiàn)在的2-3倍。

  這還不排除未來正式商用的時候價格進一步上漲,畢竟還要好幾年才能上市。

內(nèi)容來自:中國半導體論壇
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關(guān)鍵字: ASML 光刻機
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