ICC訊 第二十屆 “中國光谷” 國際光電子博覽會(OVC EXPO,以下簡稱“武漢光博會”)將于5月15-17 日在中國光谷科技會展中心舉辦。作為湖北省實驗室之一的九峰山實驗室本次展會攜檢測及工藝亮相武漢光博會,展位號B3館-3B05,誠邀行業(yè)蒞臨參觀交流。
部分產(chǎn)品搶先看
光電可靠性檢測
首發(fā)產(chǎn)品(首次展出)
應(yīng)用領(lǐng)域:電子;光通信/信息處理/存儲;
描述:1、具備消費級,通信級以及車規(guī)級產(chǎn)品(AEC-Q102)的可靠性認(rèn)證與客制化服務(wù); 2、產(chǎn)品壽命模型評估;3、產(chǎn)品可靠性方案設(shè)計與驗證,實現(xiàn)產(chǎn)品設(shè)計、工藝優(yōu)化,降低FIT; 4、光電晶圓/芯片級DC和RF測試表征。
異質(zhì)集成工藝
首發(fā)產(chǎn)品(首次展出)
應(yīng)用領(lǐng)域:電子;半導(dǎo)體加工/制造;光通信/信息處理/存儲;
描述:1、涵蓋兼容 4/6/8 inch 工藝線多功能鍵合設(shè)備;2、具備多種豐富鍵合工藝能力(永久/臨時鍵合、親水/疏水鍵合,混合鍵合)以及檢測能力;3、可實現(xiàn)高對位精度的晶圓-晶圓鍵合(≤1um)、芯片-晶圓鍵合(≤0.3um)工藝;4、可實現(xiàn)多種化合物半導(dǎo)體材料的異質(zhì)集成,具備先進的硅基光電融合、MEMS、2.5/3D集成及先進封裝等綜合平臺能力。
關(guān)于九峰山實驗室
九峰山實驗室是湖北省實驗室之一,以建設(shè)先進的化合物半導(dǎo)體研發(fā)和創(chuàng)新中心為愿景,已在中國光谷建立起先進的化合物半導(dǎo)體科研及中試平臺,包括完備的材料體系、含7條工藝線的量產(chǎn)級研發(fā)流片平臺、能力全面的先進檢測分析平臺,建立起“頂尖專家+科研骨干+研發(fā)工程師+技術(shù)工匠”的人才梯隊,具備以“異質(zhì)集成”、“先進鍵合”、“化合物外延”、“集成微波無源器件(IPD)PDK”、“碳化硅(SiC)溝槽”、“PZT壓電MEMS”等為代表的技術(shù)服務(wù)能力。 未來,九峰山實驗室將堅持以用為導(dǎo)向,與合作伙伴一同實現(xiàn)相應(yīng)技術(shù)的實現(xiàn)和突破,加快打造全球化合物半導(dǎo)體平臺、技術(shù)、產(chǎn)業(yè)的“燈塔”。
光通信及信息處理領(lǐng)域:https://www.jfslab.com.cn