中科院：光刻技術(shù)得到重大發(fā)展

  ICC訊 6月10日，中國(guó)科學(xué)院官網(wǎng)刊文稱，上海光機(jī)所在計(jì)算光刻技術(shù)研究方面取得重要進(jìn)展。

  中科院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所信息光學(xué)與光電技術(shù)實(shí)驗(yàn)室，提出一種基于虛擬邊(Virtual Edge)與雙采樣率像素化掩模圖形(Mask pixelation with two-phase sampling)的快速光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)(Optical proximity correction, OPC)。仿真結(jié)果顯示，這技術(shù)具有較高的修正效率。

  隨著集成電路圖形的特征尺寸不斷減小，光刻系統(tǒng)的衍射受限屬性導(dǎo)致明顯的光學(xué)鄰近效應(yīng)，降低了光刻成像質(zhì)量。

  在光刻機(jī)軟硬件不變的情況下，采用數(shù)學(xué)模型和軟件算法對(duì)照明模式、掩模圖形與工藝參數(shù)等進(jìn)行優(yōu)化，可有效提高光刻分辨率、增大工藝窗口，此類技術(shù)即計(jì)算光刻技術(shù)(Computational Lithography)，被認(rèn)為是推動(dòng)集成電路芯片按照摩爾定律繼續(xù)發(fā)展的新動(dòng)力。

  快速光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)(Optical proximity correction, OPC)通過(guò)調(diào)整掩模圖形的透過(guò)率分布修正光學(xué)鄰近效應(yīng)，從而提高成像質(zhì)量。基于模型的OPC技術(shù)是實(shí)現(xiàn)90nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)集成電路制造的關(guān)鍵計(jì)算光刻技術(shù)之一。